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BY4741感受態(tài)細胞

BY4741感受態(tài)細胞

簡要描述:BY4741感受態(tài)細胞
BY4741菌株來源于釀酒酵母原始菌株——S288C,是實驗室的常用菌株,為配子MATa型,廣泛應(yīng)用于鈉,鉀離子平衡;細胞抗鹽;各種金屬離子的吸收;重金屬毒性;各種糖類,碳源對真核生物細胞生長的影響;過氧化物,超氧化物的吸收與運輸?shù)难芯恐小?/p>

更新時間:2022-01-20

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

瀏覽次數(shù):2375

詳情介紹
品牌其他品牌貨號BFNC86062
規(guī)格10x100ul/50x100ul供貨周期現(xiàn)貨
主要用途僅用于科研應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè)

BY4741感受態(tài)細胞



產(chǎn)品規(guī)格CAT#: BFNC86062-01(10×100ul)/BFNC86062-02(50×100ul)

BY4741 Competent Cell:                                      100μl/支             保存: -80℃(3個月)


pYES2 (control vector, 10 ng/μl)                               10μl              保存:-80℃(12個月)

Carrier DNA (10 μg/μl)                                             100μl              保存:-20℃(12個月)

PEG/LiAC:                                                                    5ml              保存:    4℃(12個月)


基因型

MATa his3Δ1 leu2 met15Δ ura3-52


產(chǎn)品說明

BY4741菌株來源于釀酒酵母原始菌株——S288C,是實驗室的常用菌株,為配子MATa型,廣泛應(yīng)用于鈉,鉀離子平衡;細胞抗鹽;各種金屬離子的吸收;重金屬毒性;各種糖類,碳源對真核生物細胞生長的影響;過氧化物,超氧化物的吸收與運輸?shù)难芯恐?。BY4741釀酒酵母為組氨酸、亮氨酸、甲硫氨酸 、尿嘧啶缺陷型菌株,可直接通過PEG/LiAc將pYES2質(zhì)粒轉(zhuǎn)化進入BY4741細胞內(nèi)。質(zhì)粒pYES2的篩選標志為URA,可用SD-URA板板進行篩選。

青旗生物生產(chǎn)的BY4741感受態(tài)細胞經(jīng)特殊工藝制作,-80℃可保存三個月,pYES2質(zhì)粒檢測轉(zhuǎn)化效率>103 cfu/μg DNA。


BY4741感受態(tài)細胞


操作方法

1. 取100 µl冰上融化的BY4741感受態(tài)細胞,依次加入預(yù)冷的目的質(zhì)粒1-3 µg,Carrier DNA (96℃水浴3 min,快速冰浴

3 min,重復(fù)一次) 10 µl,PEG/LiAc 500 µl并吸打幾次混勻,30℃水浴30 min (15 min時翻轉(zhuǎn)6-8次混勻)。

2. 將感受態(tài)移到42℃水浴15 min (7.5 min時翻轉(zhuǎn)6-8次混勻)。

3. 5000 rpm離心 40 s棄上清,ddH2O 400 µl 重懸,離心 30s棄上清。

4. ddH2O 50 µl重懸,涂板,29℃培養(yǎng)48-96 h。





注意事項


1. 感受態(tài)細胞盡量在冰上融化。

2. 若使用pYES2質(zhì)粒表達蛋白,需在培養(yǎng)基中加入2%的半乳糖(篩選培養(yǎng)基中不用加半乳糖;當需要目的蛋白表達時,需加入半乳糖代替葡萄糖作為碳源),以誘導(dǎo)目的基因的表達。

3. 轉(zhuǎn)化高濃度的質(zhì)??上鄳?yīng)減少終用于涂板的菌量。

4. 同時轉(zhuǎn)化2-3種質(zhì)粒時可增加質(zhì)粒的用量。

5. 酵母為真核生物,不易長期保存,隨感受態(tài)在-80℃保存時間的延長,轉(zhuǎn)化效率會不斷下降,建議保存時間不超過90天。

6. BY4741酵母菌株對高溫敏感,適生長溫度為27-30℃;高于31℃,生長速度和轉(zhuǎn)化效率呈指數(shù)下降。

7. 酵母在缺陷培養(yǎng)基中生長速度比YPDA培養(yǎng)基慢,培養(yǎng)基中缺陷成分越多,生長越慢,以轉(zhuǎn)化涂板為例:涂YPDA平板29℃,48 h培養(yǎng)可見直徑1 mm克隆;涂SD單缺平板29℃,48-60 h培養(yǎng)可見直徑1 mm克隆,涂SD雙缺平板29℃,60-80 h培養(yǎng)可見直徑1 mm克隆,涂SD三缺或四缺平板平板29℃,80-90h培養(yǎng)可見直徑1 mm克隆。




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